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氧化鋁在藍(lán)寶石拋光領(lǐng)域的應(yīng)用
藍(lán)寶石用α-氧化鋁拋光漿料（VK-L30W）
隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，晶體材料的使用愈加廣泛和重要，因此晶體材料的開發(fā)、加工及應(yīng)用普遍受到人們的重視。其中，藍(lán)寶石是用途最廣泛的晶體材料之一，不僅有良好的物理和化學(xué)性能，同時也具有優(yōu)異的光學(xué)性能——主要表現(xiàn)在可透過藍(lán)寶石的光的波長范圍廣，且由于透光率高，光能損失少，可增強(qiáng)信號的精確性。
藍(lán)寶石的應(yīng)用領(lǐng)域
但為了將藍(lán)寶石的光學(xué)性能發(fā)揮出來，它本身必須要高質(zhì)量低損傷——尤其在高精尖領(lǐng)域中，很多廠商都要求晶體表層一定要達(dá)到超過光滑表面的技術(shù)指標(biāo)，粗糙度需低于幾個納米，晶體表面沒有任何的損壞和劃痕，因此對藍(lán)寶石的精密拋光與超精密拋光的挑戰(zhàn)不可謂不大。
氧化鋁在藍(lán)寶石拋光領(lǐng)域的應(yīng)用
相對于其他拋光技術(shù)來說，目前化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP）是唯一可以實(shí)現(xiàn)全局化精細(xì)拋光的工藝。在拋光過程中，漿料可與藍(lán)寶石單晶片發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成一種硬度低于藍(lán)寶石的物質(zhì)，磨料與該物質(zhì)進(jìn)行機(jī)械摩擦進(jìn)移除，消除不平整的部位，拋光后的藍(lán)寶石粗糙度低，表面質(zhì)量高，符合“大面積、高質(zhì)量”的要求。
拋光漿料一般由磨料、腐蝕介質(zhì)等成分組成，這些磨料主要起機(jī)械研磨作用，但部分磨料同時也能起到與藍(lán)寶石表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的作用。目前被廣泛應(yīng)用在藍(lán)寶石CMP中的拋光漿料主要有二氧化硅拋光漿料(VK-SP30W)、α-氧化鋁拋光漿料（VK-L30W）、二氧化鈰拋光漿料（VK-CE30W）等。
其中，氧化鋁磨料（VK-L30W）的硬度與藍(lán)寶石（莫氏硬度為9）接近，在對藍(lán)寶石拋光過程中的材料去除速率較高，因而逐漸成為拋光藍(lán)寶石的熱門磨料之一。不過，雖然有明顯優(yōu)勢，但由于氧化鋁自身性質(zhì)，以其為磨料配制的拋光漿料并不穩(wěn)定易團(tuán)聚，容易造成藍(lán)寶石表面劃痕嚴(yán)重、平整度降低，如何克服氧化鋁系拋光漿料穩(wěn)定性成為當(dāng)下研究熱點(diǎn)。
宣城晶瑞新材料有限公司是國內(nèi)較早大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)納米氧化鋁的廠家，目前已經(jīng)能穩(wěn)定生產(chǎn)提供納米氧化鋁系列粉體及分散液漿料產(chǎn)品，原生粒徑可控制在10-200nm范圍，比表面積可提供10-200m2/g系列產(chǎn)品。a相納米氧化鋁拋光液（VK-L30W），是我公司將30納米氧化鋁拋光粉經(jīng)過特殊的分散工藝，分散成穩(wěn)定的拋光漿料，方便直接使用于粉體拋光粉適用的各種領(lǐng)域。18620162680微信同步。
a相納米氧化鋁拋光液（VK-L30W）
技術(shù)特征：
·晶粒尺寸微細(xì)、晶型完好；
·比重大，具有良好的分散性。
·顆粒細(xì)小均勻無團(tuán)聚，適合于鏡面精拋光用途。
氧化鋁拋光液（VK-L30W）用于藍(lán)寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時能拋7-10um。
